K dosažení stabilní ultrajemné šířky čáry a řízení roztečí ± 0,2 mil, je třeba vytvořit uzavřený regulační systém z celého procesu výběru materiálu, základní technologie, přesnosti zařízení a kontroly prostředí. Následující jsou proveditelné technické cesty:
Kontrola přesnosti zdroje materiálu
Výběr substrátu: Upřednostňují se keramické substráty nebo modifikované polymerové substráty s extrémně nízkými koeficienty tepelné roztažnosti a tepelná deformace během zpracování je řízena v rozmezí 0,1 mil, aby se zabránilo natahování/smršťování čar způsobenému kolísáním teploty.
Funkční screening materiálu: Přísně kontrolujte viskozitu fotorezistu a konzistenci fotosenzitivní citlivosti. Velikost částic vodivé pasty je řízena na úrovni mikrometrů, aby byla zajištěna rovnoměrná tloušťka povlaku a žádné otřepy na okrajích tištěných čar.
Mechanismus skladování a použití: Prostředí skladování materiálu je konstantní teplota a vlhkost a je implementováno pravidlo první dovnitř, první ven, aby se zabránilo odchylce velikosti způsobené absorpcí vlhkosti fotorezistu a zhoršením výkonu suspenze.
Upgrade procesu jádrové litografie
Přijetí technologie přímého laserového zobrazování LDI: úplné odstranění problémů s deformací a odchylkou zarovnání u tradiční expozice filmu, zlepšení přesnosti umístění expozice na ± 0,01 mm (asi ± 0,4 mil), což je základní předpoklad pro dosažení kontroly ± 0,2 mil.
Přesné ovládání parametrů expozice v uzavřené smyčce: Stabilizace expoziční energie v rozsahu 120-150mJ/cm², dynamická úprava parametrů pro 2-3mil ultrajemných čar, prodloužení expozičního času o 15% a snížení expoziční energie o 5-8%, zamezení rozšíření šířky čáry způsobené nadměrným tuhnutím okrajů čar.
Předehřátí substrátu před expozicí: Stabilizujte teplotu substrátu na procesně nastavenou hodnotu předem, abyste zcela eliminovali interferenci tepelné roztažnosti a smršťovací deformace v následných expozičních procesech.
Optimalizace přesnosti procesu leptání
Přijetí schématu složeného přesného leptání: upřednostnění kombinace procesu „laserové leptání + suché plazmové leptání“, téměř eliminující problém bočního leptání tradičního mokrého leptání a přímé zablokování přesnosti šířky čáry na ± 0,003 mm (asi ± 0,12 mil), splnění požadavku na toleranci ± 0,2 mil.
Kontrola parametrů leptání v uzavřené smyčce: Koncentrace iontů mědi v kyselém leptacím roztoku chloridu měďnatého je přísně kontrolována na 18-22 g/l, teplota je stabilní na 35-40 stupních a tlak stříkání je zvýšen o 10 % ve srovnání s konvenčními procesy, aby bylo zajištěno rovnoměrné leptání bočních stěn linek bez lokálního přeleptání/zbytkové mědi.
Předběžná kompenzace šířky čáry: Na základě naměřeného faktoru leptání (Větší nebo rovno 5:1) je během fáze návrhu předem rezervována kompenzace šířky čáry přibližně 0,6 mil, aby se kompenzovala malá ztráta šířky čáry během procesu leptání.
Podpora zařízení a testovacího systému
Vysoce přesný polohovací systém pohybu: přijetí architektury lineárního motoru + pravítka s plnou zpětnou vazbou, dosažení korekce polohování pohybu na úrovni nanometrů a řízení chyby mechanického pohybu zařízení do 0,1 mil.
Online mechanismus detekce v reálném čase: Nasaďte laserová posuvná měřítka a optické detekční systémy s velkým zvětšením, abyste po zpracování okamžitě zkontrolovali šířku čáry a rozteč každé desky. Pokud odchylka překročí prahovou hodnotu, spustí se výstraha a výroba bude pozastavena, aby se předešlo vadám šarže.
Optimalizace tuhosti zařízení: Klíčové pohyblivé části jsou vyrobeny z materiálů s vysokou tuhostí, které izolují vnější vibrační rušení během celého procesu a zabraňují odchylce polohy způsobené vibracemi.
Plná kontrola rozměrů ultra čistého prostředí
Workshop s konstantní teplotou a vlhkostí: Ovládejte kolísání teploty v oblasti zpracování v rozmezí ± 0,5 stupně, stabilizujte vlhkost na 40% -60% a eliminujte tepelnou deformaci zařízení a změny výkonu fotorezistu způsobené změnami teploty a vlhkosti prostředí.
100-úrovňová kontrola čistoty: Základní procesní dílna splňuje 100-úrovňový standard čistoty, zcela filtruje prachové částice ve vzduchu a zabraňuje ulpívání prachu na povrchu substrátu, což způsobuje defekty a výčnělky čar a poškozuje konzistenci šířky čar a mezer.